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技術(shù)文章/ article
更新(xīn)時間:2026-05-18
瀏(liú)覽次(cì)數(shù):181德國 Hellma 氟化鈣(gài)(CaF₂)晶(jīng)體
透射(shè)範圍:130 nm(深紫外)~8 μm(中紅外(wài)),覆(fù)蓋(gài) UV/VIS/IR 全(quán)波段。
關鍵指(zhǐ)標:193 nm(光(guāng)刻(kè)核心波(bō)長(cháng))內透過率≥99.3%/cm,無(wú)吸(xī)收峰,低雜散光;248 nm/355 nm/1–5 μm 紅(hóng)外透(tòu)過(guò)率 **≥95%**。
價(jià)值:單材(cái)料適(shì)配多波(bō)段係統(tǒng),減(jiǎn)少元件(jiàn)數量,降(jiàng)低(dī)成本。

折射率:nd=1.43384;阿貝數(shù):νd=95.23(僅為普通光(guāng)學(xué)玻璃 1/5)。
均(jūn)匀(yún)性(xìng):應(yīng)力雙折(zhē)射(shè) **≤0.5 nm/cm**,雙折(zhē)射(shè)效應 **≤5×10⁻⁷**,杜絕波前畸(jī)變(biàn)。
價值:光(guāng)刻,天文,精密(mì)成像(xiàng)分辨率(shuài) / 清(qīng)晰(xī)度拉滿(mǎn)。
純度(dù):金(jīn)屬雜質 **<1 ppm**,原子級晶格規整,無(wú)缺(quē)陷,無雜質。
低(dī)熒(yíng)光:深紫(zǐ)外 / 可見(jiàn)光波段背(bèi)景熒光(guāng)極低(dī),適(shì)配(pèi)拉(lā)曼(màn) / 熒(yíng)光(guāng)光(guāng)譜(pǔ)高精(jīng)度檢(jiǎn)測。
價(jià)值:半導體 7nm 以(yǐ)下(xià)製程,科研儀(yí)器標配(pèi)。
耐(nài)受波(bō)長(cháng):157 nm/193 nm/248 nm 準(zhǔn)分(fēn)子激光,高頻高(gāo)功率(shuài)長期照射(shè)不衰減。
損傷閾(yù)值:≥10 J/cm²@193 nm,遠(yuǎn)超(chāo)行業(yè)標準。
價值:光刻(kè)物鏡(jìng),激(jī)光諧振(zhèn)腔(qiāng),光(guāng)束傳輸壽命長,維護(hù)少(shǎo)。
熱學(xué):熱導率9.71 W/(m·K)@20℃,補(bǔ)償高(gāo)熱膨脹,低溫(wēn)度係數(shù)(~10⁻⁶/℃)。
機械(xiè):莫(mò)氏(shì)硬(yìng)度 4 級,易(yì)加(jiā)工 + 耐(nài)磨(mó);最(zuì)大(dà)尺(chǐ)寸直徑(jìng) 440 mm,厚度(dù) 150 mm,支(zhī)持大口(kǒu)徑定(dìng)製。
環境(jìng):耐輻照(zhào)(航(háng)天(tiān) / 高能(néng)環境),耐(nài)高(gāo)溫(大(dà)氣 600℃/ 真(zhēn)空(kōng) 800℃),抗潮解。
工藝:德國耶拿(Jena)熔(róng)體(tǐ)生(shēng)長(cháng) + 精(jīng)密退火(huǒ),百年(nián)光學(xué)底(dǐ)蘊 + 原(yuán)肖(xiāo)特(tè)光(guāng)刻級技術。
定製:尺(chǐ)寸,取(qǔ)向(<111>/<100>),端麵(miàn)鍍膜,異(yì)形加(jiā)工(gōng)按需定製(zhì)。

氟化鈣(gài)(CaF₂)為(wéi)立(lì)方晶係(xì)各向(xiàng)同性晶體(tǐ),電子能(néng)帶結構特殊:禁帶(dài)寬度大(≈10 eV),130 nm~8 μm 波段無電(diàn)子(zǐ)躍遷吸(xī)收(shōu),實現全波(bō)段(duàn)高透(tòu)射(shè)。
低色散源於離(lí)子(zǐ)晶(jīng)體弱(ruò)色散(sàn)特(tè)性:折(zhē)射(shè)率隨波長(cháng)變(biàn)化極小,阿貝(bèi)數高達 95.23,色(sè)差(chà)校正能力(lì)很強。
高均匀性:原(yuán)子級(jí)規整(zhěng)晶格 + 低應(yīng)力退(tuì)火(huǒ),光束波前幾(jī)乎無畸變,保(bǎo)證(zhèng)光學係統(tǒng)成像 / 定位(wèi)精度。
原(yuán)料(liào):超(chāo)高(gāo)純(chún) CaF₂粉(fěn)料(99.999%+),雜質 < 1 ppm,從源(yuán)頭杜絕吸(xī)收(shōu)與散射。
生長:自主(zhǔ)熔體(tǐ)生(shēng)長(坩(gān)堝(guō)下降(jiàng)法(fǎ)),精(jīng)準(zhǔn)控溫(wēn)梯度與(yǔ)氣(qì)氛,抑(yì)製晶格(gé)缺(quē)陷 / 位錯,生(shēng)長大(dà)尺寸單(dān)晶。
退火(huǒ):精密應(yīng)力釋放,應力雙折(zhē)射降(jiàng)至(zhì)≤0.5 nm/cm,消除(chú)內應(yīng)力導致的(dí)光(guāng)學畸(jī)變。
半導(dǎo)體(tǐ)光刻:193 nm 深(shēn)紫(zǐ)外高(gāo)透 + 低色(sè)散 + 高(gāo)激光(guāng)耐(nài)久,支(zhī)撐 45nm→7nm 製程光刻物鏡(jìng)。
高(gāo)功(gōng)率(shuài)激光:低非綫(xiàn)性折射(shè)率 + 高(gāo)損傷(shāng)閾值,激(jī)光光束無(wú)畸(jī)變,長(cháng)期穩(wěn)定傳輸。
天文 / 空間光學:低色(sè)散 + 耐輻照(zhào) + 大尺寸(cùn),空間相(xiāng)機(jī) / 望遠鏡消色差 + 抗惡劣環(huán)境(jìng)。
光譜(pǔ)分析:寬波段高透 + 低熒光(guāng),拉曼 / 紅外(wài) / 紫外(wài)光譜(pǔ)背景(jǐng)幹擾(rǎo)極低,檢測精度(dù)高。
德國(guó) Hellma 氟化鈣:深紫(zǐ)外(wài) - 紅外全通,超(chāo)低(dī)色(sè)散,超高純度(dù),激(jī)光耐(nài)久(jiǔ),ji端工(gōng)況穩(wěn)定(dìng),半導體(tǐ)光刻(kè) / 高(gāo)功(gōng)率激光(guāng) / 天文 / 精密光譜gao端光(guāng)學係統材料(liào),德(dé)國原廠(chǎng)品質,全定製服務,大尺(chǐ)寸(cùn)交付。
半(bàn)導體(tǐ):193 nm 光刻物(wù)鏡(jìng) / 照明光學(xué),7nm 以下(xià)製程核(hé)心材料(liào)。
激光技(jì)術:準(zhǔn)分(fēn)子激光(guāng)諧振(zhèn)腔,高(gāo)功(gōng)率激光窗(chuāng)口(kǒu) / 棱鏡(jìng),醫用(yòng)激光(guāng)(OCT)。
天(tiān)文 / 航天:空(kōng)間望(wàng)遠鏡,高(gāo)分(fēn)辨(biàn)率(shuài)衛星相(xiāng)機,航(háng)天光學(xué)窗口(kǒu)。
科研(yán)儀器:拉曼光譜,紅外光譜,紫(zǐ)外 - 可(kě)見分光光度(dù)計,真空(kōng)光(guāng)學(xué)窗口(kǒu)。
工業(yè)檢(jiǎn)測(cè):高(gāo)精度光學測(cè)量(liáng),機器視覺,紅外(wài)熱(rè)成像(xiàng)係統。
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