Hellma氟(fú)化鈣大(dà)尺(chǐ)寸毛坯440mm口徑(jìng)
德國(guó)HellmaMaterials氟(fú)化(huà)鈣（CaF₂）單(dān)晶(jīng)光學晶(jīng)體，源(yuán)自(zì)德國耶拿百年光(guāng)學工(gōng)藝，承襲(xí)原肖特(tè)光刻級晶體(tǐ)核心技(jì)術(shù)，是全(quán)球半導體(tǐ)深紫(zǐ)外光刻(kè)，高功率準分子(zǐ)激光，紅(hóng)外光(guāng)譜，空(kōng)間(jiān)天(tiān)文光(guāng)學(xué)領域(yù)光學基(jī)材。
產(chǎn)品覆蓋Lithotec®LD-A/LD-B/LD-C全係(xì)列光刻(kè)級(jí)氟(fú)化鈣單晶，支持圓(yuán)形窗(chuāng)口(kǒu)片，矩(jǔ)形(xíng)棱鏡，大尺寸晶體毛坯，定(dìng)製異形(xíng)元件(jiàn)加(jiā)工(gōng)，晶(jīng)體(tǐ)原(yuán)生純(chún)度(dù)≥99.999%，金(jīn)屬雜(zá)質總量＜1ppm，可適配SUSS光刻機(jī)，ASML浸潤式光刻(kè)設備，準分子(zǐ)激光加工設備(bèi)配套光路組件(jiàn)。
LD-A（Lithotec-DUVGradeA）是Hellma原廠頂級193nmArF深紫外(wài)光刻專用(yòng)氟化(huà)鈣(gài)單晶品(pǐn)級，承(chéng)襲(xí)原肖特SchottLithotec光刻晶體(tǐ)技(jì)術，德(dé)國(guó)耶(yé)拿(ná)全(quán)流程自主生產，為7–45nm先進(jìn)製(zhì)程(chéng)DUV光(guāng)刻機(jī)定(dìng)型特(tè)級基材，是ASML，SUSSMicroTec，蔡(cài)司光刻(kè)設(shè)備指(zhǐ)定光學(xué)材料。
定(dìng)位：半(bàn)導體(tǐ)浸(jìn)潤(rùn)式/幹(gān)式193nm光刻(kè)物鏡(jìng)，高(gāo)重頻準分子激光最(zuì)高等級單晶(jīng)；
晶向(xiàng)標準：出廠默(mò)認(rèn)優選<111>晶向（光刻行(háng)業(yè)黃(huáng)金取(qǔ)向），可(kě)定製<100>；
純(chún)度(dù)：6N超高純合(hé)成CaF₂，金(jīn)屬雜質，氫氧(yǎng)根雜(zá)質(zhì)控製(zhì)至ppb級(jí)別(bié)，杜絕深紫外(wài)吸(xī)收色(sè)心(xīn)缺陷。
LD-A/LD-B/LD-C三等級(jí)區(qū)分(fēn)（采(cǎi)購選型對照）
LD-A（本次主(zhǔ)推(tuī)款）
適配：7–45nmArFi浸(jìn)潤(rùn)式(shì)光刻(kè)機(jī)，SUSSMA300量產光刻設備，高(gāo)能(néng)量高頻(pín)準分(fēn)子激光；
LD-B
適配：248nmKrF光刻，PCB激光鑽(zuān)孔(kǒng)，常規(guī)紫(zǐ)外工(gōng)業(yè)激光；
指(zhǐ)標(biāo)：雙折射(shè)≤2nm/cm，透(tòu)過率≥99%/cm，滿足中精度紫外光(guāng)路。
LD-C
適(shì)配(pèi)：真空(kōng)紫(zǐ)外光(guāng)譜儀(yí)，紅(hóng)外檢測，實驗室小(xiǎo)試(shì)光刻機（SUSSMA8）；
指(zhǐ)標：基(jī)礎深(shēn)紫外(wài)透(tòu)光，性價(jià)比高，無(wú)超高(gāo)激光(guāng)耐久(jiǔ)要(yào)求場景。
LD-A產(chǎn)品核心優勢
193nm深紫(zǐ)外透光，極(jí)低能(néng)量損耗(hào)
針(zhēn)對193nm光(guāng)刻波(bō)段(duàn)專(zhuān)項提(tí)純優化(huà)，內(nèi)部(bù)透過(guò)率≥99.3%/cm，無(wú)固(gù)有吸收峰與(yǔ)雜散光(guāng)，大(dà)幅降低(dī)激光光(guāng)路(lù)能(néng)量(liáng)損耗，提(tí)升光刻機(jī)單位(wèi)時間晶圓產出效(xiào)率。
納米級(jí)光(guāng)學均(jūn)匀性，杜絕成(chéng)像(xiàng)畸變(biàn)
折射(shè)率均(jūn)匀(yún)性Δn≤1×10⁻⁶/cm，應力雙折射≤0.5nm/cm，消除光刻偏(piān)振(zhèn)像(xiàng)差，波(bō)前畸(jī)變(biàn)，保障晶圓曝(pù)光(guāng)綫(xiàn)寬一致(zhì)性(xìng)，降(jiàng)低芯(xīn)片圖(tú)形不良(liáng)報(bào)廢(fèi)率。
超(chāo)高激光耐(nài)久，超長(cháng)使用壽命(mìng)
193nm激光(guāng)損傷(shāng)閾值(zhí)≥10J/cm²，可(kě)承(chéng)受(shòu)千萬次(cì)高頻ArF激(jī)光持續輻照(zhào)，長期(qī)量產無發(fā)黑，色(sè)心，透(tòu)光衰(shuāi)減(jiǎn)問(wèn)題，對比LD-B/國產氟(fú)化(huà)鈣，設備光(guāng)學(xué)窗(chuāng)口(kǒu)更換(huàn)周期提(tí)升3–6倍(bèi)，減(jiǎn)少(shǎo)產綫(xiàn)停機(jī)維(wéi)護成本。
優異熱(rè)學穩(wěn)定(dìng)，適配(pèi)連(lián)續量(liáng)產(chǎn)工況(kuàng)
熱導率達9.71W/(m・K)，高功率激光照(zhào)射下快速散(sàn)熱，無(wú)局部(bù)熱(rè)膨脹偏移；經(jīng)超(chāo)長(cháng)時間梯度(dù)退(tuì)火，內部(bù)應力(lì)釋放，24小時不間(jiān)斷產(chǎn)綫(xiàn)工況(kuàng)性能(néng)長(cháng)期(qī)穩定。
超(chāo)寬光(guāng)譜(pǔ)兼容，一材多用
透光(guāng)範圍覆蓋(gài)130nm真(zhēn)空(kōng)紫外(wài)至(zhì)8μm中(zhōng)紅外，同時適配深(shēn)紫(zǐ)外光刻，紅(hóng)外(wài)檢(jiǎn)測，可(kě)見光校準多波段光路，減少整(zhěng)機(jī)光(guāng)學(xué)元件種(zhǒng)類，降低整機物料成(chéng)本。
核(hé)心(xīn)性能(néng)優勢
超寬光(guāng)譜高透(tòu)射（130nm深(shēn)紫外(wài)～9μm中紅外(wài)）
193nm光刻(kè)關(guān)鍵(jiàn)波長內部透(tòu)過率≥99.3%/cm，248nm，355nm紫外，1-6μm紅外波段透過率穩(wěn)定(dìng)≥95%，無(wú)固有(yǒu)吸收峰(fēng)，單(dān)種材料可(kě)覆蓋UV/VIS/IR多(duō)波段(duàn)光路(lù)，減少(shǎo)光(guāng)學元件數量，降(jiàng)低整(zhěng)機(jī)光路損耗(hào)。
超(chāo)低色散(sàn)+低應(yīng)力雙(shuāng)折(zhē)射，杜絕光(guāng)束(shù)畸變(biàn)
折射(shè)率nd=1.43384，阿(ā)貝(bèi)數(shù)高達95.23，色差抑製能力(lì)為(wéi)普通(tōng)光學玻璃5倍(bèi)；經(jīng)過精密(mì)退火(huǒ)工藝(yì)，應(yīng)力(lì)雙(shuāng)折射(shè)≤0.5nm/cm，波前畸變量極(jí)低，滿足7nm-45nm先(xiān)進(jìn)半導(dǎo)體光刻納(nà)米(mǐ)級(jí)曝光(guāng)精(jīng)度要(yào)求。
超高(gāo)激(jī)光(guāng)耐(nài)久，適(shì)配(pèi)高功(gōng)率準分子(zǐ)激光
針(zhēn)對193/248nmArF/KrF激光專(zhuān)項(xiàng)優化(huà)，激光(guāng)損傷閾(yù)值(zhí)遠高於(yú)國產(chǎn)氟化(huà)鈣(gài)，長(cháng)期(qī)大功(gōng)率激光輻照無(wú)發黑，散射(shè)加劇(jù)問(wèn)題(tí)，大(dà)幅(fú)延(yán)長光刻(kè)機，激光(guāng)加(jiā)工設備光(guāng)學窗(chuāng)口(kǒu)使(shǐ)用壽命。
穩定理(lǐ)化耐(nài)受(shòu)，適(shì)配(pèi)嚴苛(kē)工(gōng)況(kuàng)
耐600℃高溫（真(zhēn)空(kōng)環境(jìng)可達(dá)800℃），耐(nài)強(qiáng)酸腐(fǔ)蝕，抗(kàng)宇宙(zhòu)高(gāo)能粒(lì)子輻照(zhào)；硬(yìng)度高，抗熱衝擊(jī)，可(kě)用(yòng)於真空(kōng)腔(qiāng)體，航(háng)天星(xīng)載(zǎi)多(duō)光(guāng)譜相機，工(gōng)業(yè)高溫激(jī)光產綫。
大(dà)尺(chǐ)寸(cùn)定製能力
單晶成品(pǐn)最(zuì)大直徑250mm，多(duō)晶毛(máo)坯(pī)可達440mm，厚(hòu)度10-150mm按需(xū)加工(gōng)；支持<111>/<100>任(rèn)意(yì)晶體定(dìng)向，表(biǎo)麵研(yán)磨/拋(pāo)光(guāng)等級按(àn)需定(dìng)製。
Hellma氟(fú)化(huà)鈣大(dà)尺(chǐ)寸(cùn)毛(máo)坯440mm口徑
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