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您的(dí)位(wèi)置：首(shǒu)頁(yè)  -  產(chǎn)品中心  -    -    -  104-B-10-40Hellma氟化鈣(gài)

Hellma氟(fú)化鈣

科(kē)研與醫(yī)療
用於(yú)光(guāng)譜(pǔ)儀窗口(kǒu)，顯微鏡(jìng)光學元件(jiàn)，紅外傳(chuán)感器(qì)等(děng)，支持(chí)精(jīng)密科研與(yǔ)醫療成(chéng)像(xiàng)需求。
Hellma氟化(huà)鈣

  • 產品(pǐn)型號：104-B-10-40
  • 廠(chǎng)商性(xìng)質：經銷商(shāng)
  • 更新時間：2026-03-18
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Hellma氟化(huà)鈣(gài)（CaF₂）晶體(tǐ)是一種高(gāo)性(xìng)能光學材(cái)料，具(jù)有以(yǐ)下核心特(tè)性與應用(yòng)優勢(shì)：

Hellma氟化(huà)鈣(gài)

一，核(hé)心光學(xué)特性

  1. 寬波段透射(shè)率

    • 覆(fù)蓋深紫(zǐ)外(wài)（130nm）至紅(hóng)外（8μm，部(bù)分(fēn)資料顯示可達(dá)9μm甚至(zhì)10μm）波(bō)段，滿足(zú)真(zhēn)空紫(zǐ)外（VUV），深紫外（DUV），可(kě)見(jiàn)光(guāng)及(jí)紅(hóng)外（IR）等(děng)多波段需求(qiú)。

    • 在193nm（深(shēn)紫外光(guāng)刻）波長(cháng)下(xià)，內(nèi)透過(guò)率超過(guò)99.3%/cm，應(yīng)力雙折(zhē)射(shè)小於(yú)5nm/cm，確(què)保光刻(kè)機物鏡係統的精(jīng)度(dù)。

  2. 低(dī)折(zhē)射(shè)率與低色散

    • 折射率(shuài)（nd）為1.43384，阿貝數(shù)（vd）高(gāo)達95.23，低(dī)色散特性(xìng)顯著(zhù)減少(shǎo)光學(xué)畸(jī)變，提升成像質(zhì)量(liáng)，適(shì)用於天文(wén)望(wàng)遠鏡，高清(qīng)鏡(jìng)頭等色(sè)校正(zhèng)光(guāng)學(xué)係統(tǒng)。

  3. 高激光(guāng)耐(nài)久性

    • 對157nm，193nm，248nm等準分(fēn)子激光(guāng)波(bō)長(cháng)具有(yǒu)優(yōu)異耐受性，適(shì)用(yòng)於光(guāng)刻激光光(guāng)學(xué)器(qì)件和(hé)光束(shù)傳(chuán)輸(shū)係統，延長(cháng)組(zǔ)件壽命(mìng)。

  4. 環境(jìng)穩定(dìng)性(xìng)

    • 抵(dǐ)抗高能粒子輻射(shè)，適(shì)用(yòng)於(yú)航空航(háng)天(tiān)等惡(è)劣(liè)環境(jìng)；大(dà)氣下(xià)使用溫度達600℃，真(zhēn)空(kōng)幹(gān)燥(zào)時(shí)可達(dá)800℃，機械強度高且抗潮解。

    • Hellma氟(fú)化鈣(gài)

二，技術參(cān)數與(yǔ)規格

  1. 物理參數

    • 密度(dù)：3.18 g/cm³

    • 熔點：1418℃

    • 熱導(dǎo)率：9.71 W/(m·K)，快速散(sàn)熱(rè)，適配高(gāo)功率(shuài)激(jī)光場(cháng)景。

    • 熱(rè)膨脹係數(shù)（@20℃）：18.85 ×10⁻⁶ /K，低(dī)熱膨(péng)脹係(xì)數減(jiǎn)少(shǎo)溫度變化引(yǐn)起(qǐ)的(dí)形(xíng)變。

  2. 規格靈(líng)活(huó)性(xìng)

    • 直徑(jìng)：多晶大(dà)可達440mm，單晶大250mm，厚度可(kě)定(dìng)製(zhì)至150mm。

    • 晶體取向：支持(chí)<111>，<100>及(jí)隨機取(qǔ)向定製(zhì)。

    • 表麵質(zhì)量：提(tí)供(gōng)原始(shǐ)，切割，研磨，拋光(guāng)等(děng)多(duō)種(zhǒng)處(chǔ)理(lǐ)精度，滿足不同(tóng)安(ān)裝需(xū)求。

  3. 質(zhì)量認證(zhèng)

    • 通過ISO 9001/14001質量管(guǎn)理(lǐ)體係認證(zhèng)及DAkkS認證，符合DIN EN ISO/IEC 17025標(biāo)準要(yào)求(qiú)，確(què)保(bǎo)批(pī)次品(pǐn)質一(yī)致(zhì)性(xìng)。

三，典(diǎn)型應用(yòng)領(lǐng)域(yù)

  1. 半導體微光(guāng)刻

    • 作為248nm與(yǔ)193nm微光(guāng)刻技(jì)術(shù)中照明(míng)和(hé)投影(yǐng)光(guāng)學的(dí)行業標(biāo)準材料，直(zhí)接(jiē)支撐45nm以下(xià)芯片(piàn)製程精度，用(yòng)於ASML等光(guāng)刻(kè)設(shè)備的(dí)核心光學(xué)組件。

  2. 高功率(shuài)激(jī)光(guāng)係(xì)統

    • 應用於準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件，紅外光(guāng)譜(pǔ)儀窗口(kǒu)片(piàn)，醫療激(jī)光器（如(rú)光(guāng)學相(xiāng)幹(gān)斷(duàn)層成(chéng)像(xiàng)設備）的核心部(bù)件(jiàn)，適(shì)配193nm，248nm等激光(guāng)波長(cháng)。

  3. 天文與成像(xiàng)

    • 用於高分(fēn)辨率天文觀(guān)測設備(bèi)的(dí)光學元(yuán)件，如望遠鏡，高清變焦鏡(jìng)頭，其(qí)低應力(lì)雙(shuāng)折射(shè)特(tè)性(xìng)確(què)保信(xìn)號傳輸(shū)完(wán)整(zhěng)性。

  4. 航空航天

    • 作為天基(jī)光(guāng)學器(qì)件(jiàn)（如(rú)衛(wèi)星載(zǎi)荷）的關鍵材料(liào)，抵(dǐ)抗高(gāo)能輻射(shè)，保障太空探測任(rèn)務的(dí)可(kě)靠性。

  5. 科(kē)研與醫療(liáo)

    • 用(yòng)於光(guāng)譜(pǔ)儀(yí)窗口，顯微鏡光學元(yuán)件(jiàn)，紅外(wài)傳感器等，支(zhī)持(chí)精(jīng)密科研與醫療成(chéng)像需(xū)求(qiú)。

Hellma氟化(huà)鈣

Hellma氟(fú)化(huà)鈣


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