德國Hellma晶(jīng)體(tǐ)材料(liào)LD-A
Hellma公司由KarlMayer於1922年在(zài)德國(guó)耶拿創立(lì)，最初(chū)專注於生產(chǎn)光學(xué)玻璃比色(sè)皿(mǐn)。隨著(zhuó)光學精(jīng)密技術的迅(xùn)猛發展(zhǎn)，Hellma逐步擴(kuò)展(zhǎn)產(chǎn)品綫(xiàn)，涵(hán)蓋(gài)了超(chāo)微量比色光學(xué)設備(bèi)等領(lǐng)域。1995年，公司成(chéng)功開辟(bì)新的產品方向，實(shí)現(xiàn)了(liǎo)纖(xiān)維係列產品(pǐn)的開(kāi)發(fā)。2010年，通(tōng)過(guò)收購(gòu)SchottLithotec，強(qiáng)化(huà)了晶(jīng)體(tǐ)材(cái)料業(yè)務。
產(chǎn)品綫(xiàn)與技(jì)術特點(diǎn)
核(hé)心產品：
比色(sè)皿：Hellma提(tí)供(gōng)1700多(duō)種型號的比(bǐ)色皿，覆(fù)蓋石英(yīng)和光(guāng)學(xué)玻璃等多種材質。這些比色皿光(guāng)程範圍(wéi)從0.01mm到100mm，適(shì)配(pèi)紫外到紅外(wài)光(guāng)譜(pǔ)（200nm-3500nm），如(rú)100-QS係列（島津UV1800配套）。
光(guāng)纖探頭：Hellma於(yú)1995年光纖探頭(tóu)，用(yòng)於(yú)在(zài)綫(xiàn)分光(guāng)檢測(cè)。這些(xiē)探(tàn)頭(tóu)耐(nài)高溫(wēn)高壓(yā)，為樣本(běn)數(shù)據采集(jí)與測量(liáng)過程同(tóng)步進行(háng)提(tí)供了可能，大大節省(shěng)了實驗(yàn)時(shí)間，並(bìng)使有毒(dú)物質和(hé)放射性(xìng)物質的光學測(cè)量變得更加(jiā)安全(quán)可(kě)靠(kào)。
晶體(tǐ)材料(liào)：Hellma的晶體材(cái)料包(bāo)括(kuò)氟化(huà)鈣(gài)（CaF₂）單(dān)晶和多晶，透(tòu)光(guāng)範圍從(cóng)130nm到9μm，折射率(shuài)均(jūn)匀(yún)性小於0.5ppm，適配(pèi)光刻(kè)激光(guāng)（193nm/248nm）。這(zhè)些晶體(tǐ)材(cái)料在(zài)半(bàn)導(dǎo)體(tǐ)生(shēng)產微光刻(kè)中作為關(guān)鍵光學材(cái)料，被(bèi)確(què)立(lì)為投(tóu)影(yǐng)和照明光(guāng)學中(zhōng)準分子激光(guāng)光學(xué)器件的行(háng)業標(biāo)準材(cái)料(liào)。
技術(shù)優(yōu)勢：
精度(dù)：Hellma產品的光路公(gōng)差為(wéi)±0.01mm，窗口(kǒu)平整度小於4λ（λ=546nm），確保了(liǎo)測量的(dí)可(kě)重復(fù)性(xìng)。
材料：采(cǎi)用高純(chún)度(dù)石英(yīng)和(hé)氟化鈣等優質(zhì)材料(liào)，單片(piàn)熱結合(hé)結(jié)構防泄漏，耐化(huà)學腐(fǔ)蝕。
製(zhì)造(zào)工藝：Hellma以其高精度(dù)的生(shēng)產(chǎn)工藝著稱，如比(bǐ)色皿的(dí)光程精(jīng)度高，樣品(pǐn)腔(qiāng)內徑誤(wù)差極(jí)小(xiǎo)，透(tòu)光窗(chuāng)口平行度(dù)高，減(jiǎn)少了(liǎo)光綫折(zhē)射(shè)和反射導(dǎo)致的光強損失(shī)。
Hellma氟化鈣(gài)（CaF₂）晶體(tǐ)是一種高性能(néng)光(guāng)學材料(liào)，具(jù)有從深(shēn)紫外(wài)到(dào)紅外波段的高寬帶(dài)透(tòu)射率(shuài)，低(dī)折(zhē)射率，低光譜(pǔ)色(sè)散，出(chū)色的激(jī)光(guāng)耐久性和抗輻照能力(lì)，廣(guǎng)泛應用(yòng)於精密光學，半(bàn)導(dǎo)體製造，天文觀測，激光技(jì)術及科(kē)研(yán)醫療(liáo)等領域(yù)。
核心特性(xìng)
高寬帶透(tòu)射率：Hellma氟化(huà)鈣晶體的透射波段範(fàn)圍(wéi)為130nm（深(shēn)紫(zǐ)外(wài)）至8μm（紅外），部分資料顯示可(kě)達9μm甚至10μm，覆(fù)蓋真(zhēn)空(kōng)紫外(wài)（VUV），深紫外(wài)（DUV），可見(jiàn)光(guāng)及(jí)紅(hóng)外（IR）等多波段需(xū)求。
低折(zhē)射率：折射率(shuài)（nd）為(wéi)1.43384，低(dī)光學(xué)損耗(hào)，適配(pèi)精(jīng)密光學係統(tǒng)。
低(dī)光譜色散(sàn)：阿(ā)貝(bèi)數（vd）為95.23，低(dī)色散(sàn)特性使其在色(sè)校(xiào)正(zhèng)光學(xué)係統中（如(rú)天(tiān)文(wén)望(wàng)遠(yuǎn)鏡，高清鏡(jìng)頭）能(néng)顯(xiǎn)著提升成像質(zhì)量。
出(chū)色的激光(guāng)耐久性(xìng)：對(duì)157nm，193nm，248nm等準(zhǔn)分子激(jī)光波(bō)長(cháng)具(jù)有(yǒu)優(yōu)異耐受(shòu)性，適用(yòng)於光刻(kè)激光(guāng)光(guāng)學(xué)器件(jiàn)和(hé)光(guāng)束(shù)傳(chuán)輸係(xì)統(tǒng)，延長(cháng)組(zǔ)件(jiàn)壽命。
抗輻(fú)照能力(lì)：抵抗(kàng)高能粒子輻射，適用於(yú)航空航天等惡劣(liè)環境(jìng)。
高熱導率：熱(rè)導(dǎo)率為9.71W/（m·K），快速(sù)散熱，適配(pèi)高(gāo)功率(shuài)激(jī)光場景(jǐng)。
高(gāo)環境適應性：大氣下(xià)使用(yòng)溫度(dù)達600℃，真(zhēn)空幹燥(zào)時可達800℃，機械強(qiáng)度(dù)高且(qiě)抗潮解。
規(guī)格(gé)與(yǔ)定製
尺(chǐ)寸：多晶(jīng)直徑可(kě)達440mm，單(dān)晶直徑可達250mm，厚(hòu)度可(kě)定製(zhì)至150mm。
晶體取(qǔ)向：支持(chí)<111>，<100>及隨機(jī)取向定製。
表麵質(zhì)量：可選(xuǎn)原始，切割，研(yán)磨，拋(pāo)光(guāng)等(děng)多(duō)種處理(lǐ)精(jīng)度，平麵(miàn)度可(kě)達(dá)λ/10，光(guāng)潔度20-10。
典型(xíng)應用
半(bàn)導體微光(guāng)刻(kè)：作為248nm與193nm微光刻技術(shù)中(zhōng)照(zhào)明(míng)和投影光學的行業標準材(cái)料(liào)，直(zhí)接支撐45nm以下芯片製程(chéng)精度(dù)。
天文(wén)觀測：用於高(gāo)分辨率空(kōng)間(jiān)相(xiāng)機(jī)，天文望(wàng)遠鏡(jìng)的光學元件(jiàn)，以及天(tiān)基(jī)光學器件（如(rú)衛星(xīng)載(zǎi)荷），其(qí)低應(yīng)力雙(shuāng)折(zhē)射特性確保信號傳(chuán)輸(shū)完(wán)整性(xìng)。
激光技術：作(zuò)為激(jī)光諧振腔鏡(jìng)，醫(yī)用激光(guāng)器(qì)（如光學相幹斷(duàn)層成像設備）的(dí)核心材(cái)料(liào)，適(shì)配193nm，248nm等(děng)準(zhǔn)分子(zǐ)激(jī)光波長(cháng)。
科研醫療：用(yòng)於紅外光(guāng)譜傳感器，醫(yī)用激(jī)光(guāng)器等(děng)設(shè)備。
德國Hellma晶體材(cái)料(liào)LD-A
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